Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition (2023)
Rasteiro , Letícia Fernanda 
; Motin, Md Abdul ; Vieira, Luiz Henrique ; Assaf, Elisabete Moreira ; Zaera, Francisco
Source: Thin Solid Films. Unidade: IQSC
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, FILMES FINOS
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ABNT
RASTEIRO , Letícia Fernanda et al. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition. Thin Solid Films, v. 769, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716. Acesso em: 15 maio 2024.APA
Rasteiro , L. F., Motin, M. A., Vieira, L. H., Assaf, E. M., & Zaera, F. (2023). Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition. Thin Solid Films, 769. doi:10.1016/j.tsf.2023.139716NLM
Rasteiro LF, Motin MA, Vieira LH, Assaf EM, Zaera F. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 769[citado 2024 maio 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716Vancouver
Rasteiro LF, Motin MA, Vieira LH, Assaf EM, Zaera F. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 769[citado 2024 maio 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716
